馬上要2023了,我國光刻機發展得怎么樣了?
半導體行業已經成為當今世界各國主要追求發展的一大行業,光刻機作為世界半導體領域的頂尖工藝,更是受到大眾的追捧,因此這些年來,世界各國的專業學者不斷尋求研制光刻機,試圖在半導體領域尋找發展的先機。
而當前縱觀世界各國企業,荷蘭ASML所量產的EUV光刻機,可以看出來是全球最頂尖的技術,原本世界各國可以憑借著荷蘭所提供的 Euv光刻機發展本國半導體行業,但奈何中國卻因為受到美國的限制,無法獲取EUV光刻機。如今馬上到了2023年,中國在光刻機發展領域又有哪些變化呢?

這些年來,各國為了發展半導體行業,在光刻機研發中投入的資金高達上億,但大多數國家都收效甚微,畢竟光刻機的研發本身就是一項艱巨的工作,光刻機作為芯片生產必要工具,也是未來智能家居和互聯網時代的無法跳躍的一大環節。
而現在中國的境遇卻給其他國家敲響了警鐘,中國因為沒有掌握高精尖芯片研發能力,導致中國在此領域不斷受他國政策限制,中國企業在此期間更是受到了嚴重的利潤損失。

高端芯片領域發展停擺,讓中國在刻機研發領域被迫停滯發展,而我們能夠改變這種局面的方法,就是走上自主研發道路。
可光刻機這種東西說研發又不容易,畢竟當前光刻機基本就兩種,分別是DUV光刻機和EUV光刻機,而前者更多體現的是中低端芯片的研發制造,像是東芝佳能以及我們上述所提到的荷蘭的ASML,都有這樣的生產能力,但是用于生產高精尖芯片的醫用微光刻機就只掌握在ASML手中。

EUV光刻機除了需要大量技術專利作為其發展基礎,更重要的是它的零件也多達上萬個,這就需要全球幾十個國家為其提供,這條極其繁瑣的生產鏈,讓各個不具備基礎工業生產工業鏈的國家被迫止步。
而我們知道如果我們不能走上自主研發道路,被卡脖子的境遇就無法改變,而我國現在的光刻機研發又走到了哪一步呢?

過完三年不斷被限制 、卡脖子的境遇告訴我們,光刻機自主研發難度確實高,但是卻是我們必須要走上的一條路。而在這條發展道路上,必須要投入大筆資金,中國內地有很多研發出眾的企業,不過這其中表現最強的還是上海微電子,上海微電子將光刻機分為幾大板塊,他們打算依照這些板塊的不同特性逐一攻克,如今上海微電子在此領域已經取得了可觀的成績,而在28nm制成的工刻機工藝上,他們已經拿下了一部分成就,這也讓 ASML表示對他們刮目相望。
除此外ASML還提到,只要他們再給上海微電子5年的時間,光刻機行業的核心刻機就不再是只掌握在他們手中的秘密,事實上,現在除了一些國內企業仍堅守傳統路線,也有一些企業開啟了新發展道路。

他們試圖通過不同方式來實現那些只有依靠光刻機才能完成的操作,就拿通富微電舉例,他們就打算繞過光刻機的方式進而實現5nm制程工藝芯片量產,不過芯片整體體系還需要繼續縮小,至于南大廣電也直接聚焦了光刻膠領域,這也實現了arf光刻膠的自主研發,這都幫助我們擺脫了對那些外國企業的依賴。
現在不僅是我國企業正著重從繞過光刻機的方式來解決刻機發展的難題,還有一些國外企業也打算利用同種方式擺脫對 ASML生產的UV光刻機的高度依賴。

總體來看,EUV光刻機除了是困擾中國各大企業的難題,也是讓各個國家難以攻克的技術難點,因此,繞過光刻機來生產芯片就成了各個國家發展的主流方式,比如現在蘋果公司就使用芯片對接方式完成了M1Pro芯片的生產,而我國也則趁機選中了聚焦光子芯片和芯粒技術,利用這兩項技術來擺脫困境,對于傳統光刻機的過度依賴,而我國現在聚焦的新力技術就是使用多個高精尖芯片堆疊而成的,它能發展成性能更為優秀的芯片。

此前多年中國在高精尖芯片領域不斷受到他國打壓與脅迫,而如今中國也終于在這一領域做到了突破自我,光刻機生產將不再是行業秘密。
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