占豪:重大突破!中國光刻機問世,價格只是國外產品2%!
作者 :占豪 2018-12-03 21:12:51 審稿人 : admin 圍觀 : 次 評論
不過,占豪認為中美貿易戰(zhàn)打不到那個程度,而且中國的光刻機應該說不遙遠了。結果,沒想到,這才幾個月,中國的光刻機就面世了。媒體報道,由中國科學院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備——超分辨光刻裝備項目今天在成都通過驗收,這是我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制,光刻分辨力達到22納米,結合多重曝光技術后,可用于制造10納米級別的芯片。光刻機作為半導體芯片的“母機”,在半導體制造行業(yè)的作用不亞于高精度機床在機械加工領域。它對于我國半導體產業(yè)而言,是一個重大的突破。
為什么很多國家不愿意賣給我們相關裝備,原因就是一旦賣給中國,中國就能造出來,所以發(fā)達國家往往都喜歡對中國技術保密。但是,保密也沒用,中國自己努力也會搞出來,而且一旦搞出來就把相關產品搞成白菜價。這一次也不例外。光刻機,ASML的193nm光刻機售價在7000萬美元以上,EUV光刻機售價在1億歐元以上,中科院的這套光刻機才多少錢呢?一兩千萬人民幣,簡直白菜價!當然,由于基數體系不同,國產光刻機現(xiàn)在還取代不了ASML的光刻機,但我們有了這個裝備之后,對方就要承受壓力了,而且如果再不賣產品給我們,我們搞出來得更快,那么他們以后想賣我們還不買了。而且以后可能會面臨我們的強大競爭壓力。
那么,我們的光刻機是什么時候開始研發(fā)的呢?來自中科院官方的消息報道,中科院光電所所長、超分辨光刻裝備項目首席科學家羅先剛研究員介紹說,2012年,該所承擔了超分辨光刻裝備這一國家重大科研裝備項目研制任務,經過近7年艱苦攻關,在無國外成熟經驗可借鑒的情況下,項目組突破了高均勻性照明、超分辨光刻鏡頭、納米級分辨力檢焦及間隙測量和超精密、多自由度工件臺及控制等關鍵技術,完成國際上首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備研制,其采用365納米波長光源,單次曝光最高線寬分辨力達到22納米(約1/17曝光波長)。在此基礎上,項目組還結合超分辨光刻裝備項目開發(fā)的高深寬比刻蝕、多重圖形等配套工藝,實現(xiàn)了10納米以下特征尺寸圖形的加工。
看看,我們已經搞了七年了!這7年讓我們開始迫近對手,未來隨著時間推移我們的進步會更快!所以說,想遏制中國,怎么可能?遏制來遏制去,我們啥都有了!
所以,我們根本不怕他們,不怕美國打貿易戰(zhàn),我們有足夠的底氣!如果一定要逼中國,那只能獲得更大的反彈力。對其他國家來說,中國既然是遏制不住的,那么最好的方式就是合作。譬如,那些造光刻機的,趕緊與中國進行技術合作,共同成立公司開發(fā)中國市場就是最明智選擇。譬如,英國ARM公司是全球領先的半導體知識產權 (IP) 提供商為了中國市場就和中國成立了合資公司。
這個世界是合作的,合作才能共贏!
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